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曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻機（ ...： 。

[PDF] 黄光制程简介。

曝光系统. •. 显影系统. •. 检测系统. •. 总结黄光制程 ... 光阻是一种化学材料，在PHOTO process 中经过曝光 ... 曝光机的种类(Scanner ,Stepper). 工作方式区分：.： 。

[PDF] 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏。

製程用的設備主要為光. 阻塗佈與顯影機（Track）。

以及曝光機（Scanner），主要的材料為光阻和顯影劑。

微影步驟. 包含去水烘烤、黏著層 ...： 。

stepper scanner差異 - 軟體兄弟。

所以目前主流光刻機都是Scanner，只有部分老式設備依舊 ...,曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。

前者一次曝光一整片晶圓（wafer）， ...： 。

[PDF] 黃光微影製程技術。

exposed by aligner, stepper or scanner. - Post Exposure Bake (PEB). 3. Developing. - develop. - After Developing Inspection (ADI).： 。

Canon Semiconductor Equipment Taiwan, Inc. - 佳能半導體設備。

佳能的半導體製造設備,微影步進機(Stepper)與步進掃描機(Scanner) , 主要應用於 ... 佳能的液晶顯示器製造設備, 反射式對準成像曝光機(MPA), 藉由大型的反射光學系統 ...： 。

圖片全部顯示。

[PDF] 中華大學碩士論文。

節簡單的介紹了微影工程，所謂曝光機整合系統包含了晶圓軌道機(track)及曝光機. (stepper/scanner)。

2.2 節描述了疊對的定義，說明疊對在物理上的意義。

2.3 節到2.5.： 。

投影光刻儀。

SUSS MicroTec 公司的光罩對準組合，以其高對準精度和精密的曝光技術，輔以獨創的投影 ... Scanning technology achieves greater throughput than stepper processes, ...：